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概述：
这款配置的低真空CVD系统集1200℃真空管式炉，3通道气路系统和真空系统组成，可根据用户需要设计生产（有双温区、三温区、多温区），可预抽真空（有高真空、低真空），通多种气氛（供气系统有质子流量控制器和浮子流量控制器）。真空泵、阀均采用进口设备，性能可靠。控制电路选用模糊PID程控技术，具有控温精度高，温冲幅度小，性能可靠，简单易操作等特点。CVD生长系统适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容（MLCC）气氛烧结等实验。
主要技术参数：
1200双温区加热炉
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电压 |
AC220V 50/60Hz |
功率 |
4.5KW双温控 |
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加热区长 |
220mm，恒温区长度：100mm |
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最高温度 |
1150℃ |
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工作温度 |
≤1100℃ |
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升温速率： |
≤15℃/min |
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温控系统 |
PID自动控制晶闸管（可控硅）输出功率， 30段可编程控制器 |
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恒温精度 |
±1℃ |
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石英管 |
φ 25/50/60/80*1400mm |
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三路质量流量控制系统
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最大电压 |
185~245V/50Hz |
最大输出功率： |
18W |
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流量计标准量程： |
50，100 ，200，500SCCM；（非特殊指定以氮气标定，量程可选定） |
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工作温度： |
5~45 oC |
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工作压差： |
0.1～0.5 MPa |
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最大压力： |
3Mpa |
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准确度： |
±1.5% FS |
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低真空系统
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1.采用双极旋片真空泵，真空度可达5×10-1 Torr不锈钢充油真空压力表，良好的抗震性 2.安装过滤器 |
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内置测温系统 |
测温元件可从加热区边缘延伸至温区中心法兰密封，保证炉管的密封性测温元件： N型热电偶 |
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法兰及支撑 |
304不锈钢快速水冷法兰，长期水冷无腐蚀一个卡箍就能完成法兰的连接，放、取物料方便快捷可调节的法兰支撑，平衡炉管的受力支撑 包含进气、出气、真空抽口针阀，KF密封圈及卡箍组合，4个密封硅胶圈等 |
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可选配件 |
混气系统,中、高真空系统，各种刚玉坩埚，石英管，计算机控制软件，无纸记录仪，氧含量分析仪，冷却水循环机等。 |
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